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分析HIC氫致開裂試驗(yàn)的具體操作方法發(fā)布時(shí)間:2022-11-25   瀏覽量:970次

HIC氫致開裂試驗(yàn):將未受力試樣暴露于3種標(biāo)準(zhǔn)溶液中的一種,在常溫常壓條件下通入硫化氫氣體或硫化氫與二氧化碳的混合氣體,經(jīng)過一定的時(shí)間后,將試樣從溶液中取出然后進(jìn)行評(píng)價(jià)。

取樣及試樣制備

試驗(yàn)用試樣的尺寸

長(zhǎng):100土1mm寬: 20士1mm

厚:送檢樣品的全壁厚但不超過30mm,小直徑管、薄壁的ERW和無縫管試樣厚度,應(yīng)保證至少為80%的管體厚度。

取樣后去除試樣上下或內(nèi)外表面最多各1mm。取樣后彎曲的試樣可不壓平進(jìn)行試驗(yàn)。

試樣數(shù)量:奇數(shù)個(gè),至少3個(gè)

基本原則一般為母材沿軋制方向取樣;焊縫在垂直于焊縫位置取樣;ERW管沿焊縫方向取樣。

試樣制備:線切割,磨床

試樣清洗:丙酮超聲清洗,酒精脫水

霧化試驗(yàn)法

使用噴槍霧化器保持噴霧器與試樣表面距離在250mm~500mm氣體以0.1MPa (15psi) 通過噴霧器,使試樣表面形成薄霧噴水時(shí)間1s ~ 10s,當(dāng)水滴在表面迅速形成一層薄且連續(xù)一致的水膜時(shí),說明試樣除脂滿足要求。

晶間腐蝕.png

溶液制備

配制溶液:預(yù)除氧流速100ml/min/每升的N2凈化處理1h

試樣暴露:放置試樣-寬面垂直,除氧流速100ml/min/每升的N2凈化處理1h,試驗(yàn)氣體飽和并測(cè)量濃度200mI/min/每升的試驗(yàn)氣體,60min

清洗,氫鼓泡,裂紋分析及計(jì)算

溶液配制

A溶液:0.5 wt% CH,COOH + 5 wt% NaCl+蒸餾水初始pH:2.7士0.1;硫化氫飽和時(shí): 2.7~3.3; 結(jié)束<4.0硫化氫含量:不低于2300ppm

B溶液:不含重金屬離子的合成海水初始pH:8.1~8.3;硫化氫飽和時(shí): 4.8~5.4; 結(jié)束< 4.8 ~5.4硫化氫含量:不低于2300ppm

C溶液:0.4 wt% CH,COONa + 5 wt% NaCl +蒸餾水初始pH/硫化氫飽和時(shí)/結(jié)束:目標(biāo)值土0.2 HCl /NaOH含氧量:不超過50ppb硫化氫含量: 計(jì)算值還可選擇NACE TM0177 B溶液控制溶液與試樣表面積比值:3mL/cm25mL/cm2 (C溶液)

結(jié)果評(píng)價(jià)

氫鼓泡-數(shù)量、最大尺寸、面積比

數(shù)量:依據(jù)驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn),直觀判定

最大尺寸:試樣表面經(jīng)1 200粒度砂紙輕微打磨,肉眼選擇最大氫鼓泡,金相顯微鏡100倍下測(cè)量最大直徑。

面積比:相機(jī)對(duì)試樣拍照照片用Photoshop處理,圈出所有氫鼓泡并填充黑色,反選氫鼓泡以外的區(qū)域,填充為白色,查看所有氫鼓泡區(qū)域的像素Pg及整個(gè)圖像像素P,面積比= Pg/PX100

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